En micro et nanofabrication, la lithographie est devenue un procédé incontournable pour reproduire un motif sur un substrat. Les motifs sont, d’abord, réalisés dans une résine, une solution contenant un solvant organique et un polymère sensible à un rayonnement, étalée sur le substrat. Le motif est ensuite transféré au substrat (gravure ou dépôt) et la résine est éliminée. Les solvants et les polymères actuellement utilisés sont des produits organiques synthétiques pour lesquels se posent des questions d’impact environnemental, de gestion des déchets et leurs coûts et de dépendance au pétrole. Il est envisagé de remplacer les résines actuelles par des résines issues de la biomasse. Des polymères naturels ont été rendus photo ou électrosensibles par modifications chimiques (préparation de dérivés de polymères naturels, greffage de groupements) mais ne sont pas toujours solubles en milieu aqueux[1], [2]. Au contraire, certains polymères naturels sont utilisés sans préparation préalable en lithographie mais les mécanismes mis en jeu et l’étape de gravure, n’ont pas été étudiés [3]. Les objectifs de ce travail sont de développer des résines constituées de chitosane, polymère naturel soluble en milieu aqueux, pouvant faire des films, adhérent à notre substrat et résistant à la gravure et d’étudier les mécanismes mis en jeu et de comprendre la relation processabilité/structure. En lithographie électronique, il est apparu que certains paramètres structuraux et la teneur en eau sont des paramètres clés pour écrire sur un film de chitosane. En photolithographie, pour la dose délivrée, le chitosane n’est pas sensible aux UV. Des nanoparticules de dioxyde de titane ont été incorporées dans une solution de chitosane. Ceci a permis de le photosensibiliser mais a induit de nouvelles problématiques notamment liées à la dispersion des nanoparticules.